产品展厅
电子抛光液 硅溶胶水溶液
- 品牌:惠和
- 产地:广东
- cas:14808-60-7
- 价格: ¥12/千克
- 发布日期: 2023-04-28
- 更新日期: 2024-11-08
产品详请
品牌 | 惠和 |
货号 | |
EINECS编号 | |
英文名称 | |
型号 | SD |
外观 | 半透明,乳白色 |
纯度 | 30-50% |
CAS编号 | 14808-60-7 |
别名 | 二氧化硅水溶液 |
分子式 | mSiO2·nH2O |
执行质量标准 | 企标 |
厂家(产地) | 广东 |
研磨抛光:
单质硅硅溶胶以其良好的球性结构、较为坚硬的质地以及纯净的品质,可以被很好地用作电子产品、金属、玻璃、镜面陶瓷、硅片、半导体材料等的研磨抛光材料。
单质硅硅溶胶以其良好的球性结构、较为坚硬的质地以及纯净的品质,可以被很好地用作电子产品、金属、玻璃、镜面陶瓷、硅片、半导体材料等的研磨抛光材料。
硅溶胶可用于3C产品外观件抛光、微电子、光电子、光学、金属以及蓝宝石抛光。
蓝宝石晶体(α-A12O3)是一种耐高温、耐磨损、抗腐蚀和透光波段宽的 光功能材料,它具有与Ⅲ族氮化物相同的六方密堆积型,是由物理、机械和化学特性三者独特组合的优良材料。
在光通信领域,蓝宝石晶体不仅用作短波长有源器件,还用作偏振光的无源器件在微电子领域,蓝宝石可以作为新一代半导体衬底SOI(绝缘层上)的衬底,由于蓝宝石优良的阻挡作用,能够减小晶体管的电容效应,其运算速度可变得更快,功耗变得更低。在光电子领域,蓝宝石晶体是制造GaN发光二极管(LED)的 衬底材料。在蓝宝石衬底上生长薄膜之前,首先要去除切片时产生的划伤、凹坑、应力区等,然后要降低表面粗糙度。表面的粗糙度越大,表面的悬挂键越多,越容易吸附其他杂质,并且与上面的薄膜有较差的晶格匹配。
传统的纯机械抛光是用抛光粉不断地研磨被抛光材料的表面,容易产生较深的划伤。而CMP(化学机械抛光)是在化学作用的环境下,通过机械作用将化学反应物去除掉,提高了材料的去除速率,同时也得到良好的表面形态。
目前常用的CMP为氧化硅硅溶胶,它是一种硬而脆的陶瓷材料,其表面化学活性很低。SiO2水溶胶是双电子层结构,外层电子显负电荷,由凝聚法制备的胶体SiO2粒子表面富含硅羟基,研究还发现采用凝聚法制备的硅溶胶内部也富含有硅羟基,正是这个特点,使得凝聚法制备的SiO2胶体黏度小,硬度适中,无棱角,在CMP时不会产生划伤