供应高纯纳米级硅溶胶用于CMP氧化硅抛光液-江门市惠和永晟纳米科技有限公司

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供应高纯纳米级硅溶胶用于CMP氧化硅抛光液

产品详请

纳米级、无定形的二氧化硅（SiO2）颗粒，胶体结构，呈液体状；

无味、无毒、无腐蚀，耐水、耐候、耐高温；

颗粒半径极小，比表面积大，填充性能好；

颗粒通常带电荷，易改性，与其他有机或无机组分混合使用，形成效果。

硅溶胶在 CMP 行业中的应用

硅溶胶是 CMP 工艺中应用最广泛的一种软质磨料，在抛光过程中能够有效去除工件表面的损伤层，降低表面

粗糙度，其良好的化学稳定性和可控的粒径分布能够在确保工件表面质量的同时，实现高效的平坦化处理。

提供磨料：硅溶胶是配制纳米二氧化硅抛光液的主要原料，提供 CMP 过程中所需的磨料，实现工件表面损伤

的研磨去除。

调控抛光速率：根据不同的抛光要求调整硅溶胶的浓度和粒径，达到所需的抛光速率。

改善表面质量：硅溶胶中的化学组分与工件表面发生化学反应，使其软化，同机械磨削协同配合，提高抛光后

的表面质量。

产品优势

粒径分布均匀：粒径控制严格，分布均匀，有助于实现抛光效果一致性。

稳定性强：分散悬浮性好，不易聚集或沉淀，能够延长抛光液保存时间，维持抛光液的均一性。

纯度高、低残留：杂质含量低，纯度高，抛光后工件表面残留少，容易清洗。